LPCVD 的工作原理是什么？?

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賽瑞達智能電子裝備（無錫）有限公司2025-04-19

在低壓環境下，先把氣體源（也就是氣態前驅物）引入反應室。接著將基片加熱到特定溫度，使氣體前驅物能發生反應。當氣體分子與基片表面接觸，就會分解或進行化學反應，生成固態沉積物，也就是我們要的薄膜材料，同時還會釋放出氣體副產物。整個過程通過控制低壓條件，讓反應更可控，進而實現均勻的薄膜沉積。

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簡介：賽瑞達成立于2021年，專注于半導體設備的研發、生產與銷售。公司位于無錫，致力于提供定制化解決方案。

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